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个反应台，2024
年实现首台销售，全年设备销售约
1.56
亿元
。
此外，公司的
epi
设备已顺利进入客户端量产验证阶段，在
micro
-
led
和高端显示领域的
cvd
设备开发上也取得了良好进展，并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场。
在规模扩张方面，中微公司积极推进生产基地的建设。
2023
年，公司位于南昌的生产研发基地正式投入运营，上海临港生产和研发基地目前也已部分启用，位于临港滴水湖畔的总部大楼的建设工作也在稳步推进中。
不久之后，中微公司的厂房和办公楼总面积将达到
45
万平方米，为公司进一步扩充高端设备产能、提升公司研发能力和科技创新水平奠定坚实的基础。
现状：业务布局与市场地位
核心业务与产品
如今，中微公司已成长为一家在半导体设备领域极具影响力的企业，其业务涵盖刻蚀设备、cvd
设备、薄膜沉积设备等多个关键领域。
刻蚀设备作为中微公司的核心业务之一，在市场上表现卓越。
公司的等离子体刻蚀设备技术处于国际先进水平，已成功应用于从
65
纳米到
5
纳米及更先进节点的制造工艺，能够满足
90%
以上的刻蚀应用需求。
其中，p
刻蚀设备反应腔全球出货量超
3000
台，累计已有超过
700
台
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