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纳米及更先进节点的制造工艺，刻蚀精度达到了
100
“皮米”
以下水平，相当于头发丝
350
万分之一的精准度，能够满足
90%
以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖
5
纳米及以下更先进水平。
公司的
刻蚀设备反应腔全球出货量超
3000
台，累计已有超过
700
台
icp
和
tsv
设备在国内外生产线实现量产，市场占有率不断提高。
在薄膜设备领域，中微公司推出了多款新产品，如
preforma
uniflex?
cw、preforma
uniflex?
hw、
preforma
uniflex?
aw
等，以满足市场对不同薄膜沉积工艺的需求。
公司新开发的
lpcvd
薄膜设备和
ald
薄膜设备也已进入市场并获得重复性订单，其中
lpcvd
薄膜设备累计出货量已突破
100
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