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继续使用193纳米的光源，推动芯片制程从45纳米继续上升，最终的极限做到了7纳米工艺。
直到深入5纳米制程范围的时候，193纳米的深紫外光源才彻底走到了尽头。
半导体产业不得不尝试更换波长13.5纳米的极紫外光源。
所以对于大明而言，当然可以尽快用攻关浸润式光刻技术，但是在新光源的研究上也要不断努力。
另外，前世所有用过的已经成功的路，当然是已经确定可行的路。
前世没有采用的道路，也未必是不可行的。
以现在大明的资源，对于后世出现过其他方案，也可以让工部有选择尝试。
说不定能够实现比原有道路更好的效果呢？
比如说“同步辐射光源”
设施，本身作为一个其他方面的科研设施，其原理使得其能放出各种波长的光。
包括最为接近X光的“极紫外光”
。
实际上，历史上早期的光刻机技术验证，也曾经用过同步辐射光源去做研究和验证。
但是同步辐射光源的性质注定了难以商业化。
大明这边也可以尝试，建设大规模的同步辐射光源，在它的基础和原理上讨论，各种光源和光刻的可行性。
同时它也可以继续作为科研设备持续运转。
<divclass='gad2'> 还有其他的更加具体的细节，比如提升性能的铜导线工艺，提升效率的双件工作台设计等等。
朱靖垣把自己能想到的都依次列举出来，作为自己的不确定的设想。
让工部和半导体司安排人员去做攻关和验证。
在这样的基础上，朱靖垣对工部、半导体司、工匠们提出了更加具体的研发目标。
首先是最重要和最核心的工艺制程和中央处理器。
两年之内完成一微米工艺的普及和量产，同时完成下一代的通用微处理器的开发。
新处理的性能目标是每秒计算次数不低于一千万次。
最好是达到每秒五千万次，也就是接近于386甚至486，或者是第一代PS游戏机的水平。
同时要求，它必须是六十四位微处理器，开发代号也因此直接确定为六十四。
按照朱靖垣的计划，六十四位处理器开发完成之后，将会开始主动向民用市场推广，主动开发更多民用设备。
大明的半导体产业构建方式，与历史上的美利坚完全不同。
美利坚作为一个商业社会，就算是官方主导的项目，通常也是军方出钱出技术，让民间厂商去完成产品开发。
这种模式的优势是非常明显的。
最终产品的类似产品，以及开发过程中产生的技术，能够更快的进入民用市场。
会有很多商人想尽一切办法，把他们的商品推给任何有购买力的人，这非常有利于新产品的迅速推广。
他们的理论利润是没有明显限制的。
在很多时候，这种市场的运转状态，是非常接近充分竞争状态的。
但是缺点也同样明显。
缺乏引导的蓝海市场竞争会出现各种各样的混乱。
很容易出现劣币驱逐良币的情况，甚至可能出现模仿者干死原创的情况。
通常要经过长期的厮杀，等到有少数拥有绝对优势的厂商，联合起来勉强控制大部分市场的时候。
才有可能形成相对稳定的秩序和行业标准。
因为在市场处于混战状态的时候，厂商之间基本上是谁也不服谁的。
任何单个没有优势的厂商，想要主导行业内的标准的时候，都可能有其他厂商反对和捣乱。
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