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时间转眼间就到了十月中旬……
整个盖世集团的业务已经又上了一层楼，先是盖世电器推出了下半年的第二款线产品主食专家，且清扫专家接连拿下了近期的好几项国内外大奖；然后，盖世重工在徐城市与徐工合资的工厂、在苏府市与三七重工合资的工厂也接连破土动工！
在这时候，盖世集团旗下的一家不起眼的子公司，在新厂区内推出了自己的首款产品光刻胶！
这家公司正是杨越获得系统黑科技之后成立的盖世电子化学制品有限公司，专门负责以系统黑科技为依托，全力研发先进电子化学品的下属企业。
而这家公司推出的首件产品光刻胶，正是市场需求特别大，严重依赖进口的产品，所以一直被杨越寄予厚望，甚至连前段时间抽调人才去研发第五代先进石墨烯电池的时候，仍然保留了部分人才继续这个项目的研发。
好在留下的系统人才不负杨越厚望，终于在这时候拿出了成品！
可能很多人听过或在新闻报道中看过光刻机、蚀刻机以及n工艺这样的术语，但对于光刻胶却还是十分陌生的……
在集成电路工业生产中，硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。
微影光刻工艺是一种图形影印技术，也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。
首先将光刻胶（感光性树脂）滴在硅晶圆片上，通过高速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜，并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。
涂好了光刻胶才能进入光刻机进行曝光，让紫外线在光刻胶上生成掩膜中的电路图，必要的时候还要多重曝光，反复使用光刻胶，因此没有这一步电路是造不出来的。
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，pa（聚甲基丙烯酸甲酯）、聚甲基戊二酰亚胺（pgi）以及dnq（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
据有关资料显示，到年全球光刻胶市场市场价值将达到亿美元，年复合增长率算起来这个市场比光刻机产值还要大得多，毕竟光刻胶是耗材。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、lg化学等等，天朝公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
但偏偏光刻胶技术却是整个光刻工艺中最最核心的技术之一！
想弯道超车都是绝对绕不过去的一个关键环节！
其实，光刻胶这种产品早已有之，光刻胶被应用在印刷工业上已经超过一个世纪了。
但直到上世纪年代，人们才发现它在印制电路板领域可以有广泛的应用。
半导体工业采纳这种技术来生产晶圆是在世纪年代。
在世纪年代末，eastankodak和shipley公司分别出适合半导体工业需要的正胶和负胶。
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