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“光刻机又叫掩模对准曝光机，是利用照相机的原理，将电子工程师设计的电路图分多步骤转移到硅晶圆的方法。
这里面最难的是激光技术和机械控制精度。
但这两点其实我们早已经解决了，不得不说，老板真是高赡远嘱啊！
我先说，激光的重要性。
一般光刻机上所用的激光都是紫外光，据我到公司以来，才了解。
紫外光也分等级，普通的紫外光也叫UV，它的光波振幅是365Nm，第二种叫深紫外光，也叫DUV，又叫准分子极光，它的光波振幅减少到248Nm到193Nm，是我们早在九二年就请清华大学光电研究所，研究出来的技术。
还有一种是我们为了提高纳米级数控机床的控制精度而研究出来的，我们叫极深紫外光又叫EUV，它的光波振幅只有10到15Nm。
光波振幅越小，意味着光刻精度越高。
光波振幅小，能量密度就大，激光只要照射一次，就能在光刻胶上留下清晰的图形。
因此，我敢说在激光技术方面，我们已经达到了世界领先。
第二个重点，机械控制技术，就不用我说了，我们已是世界领先，机械精度达到了纳米级水平。
而且我们的机械控制技术与国外完全不同，在老板的指点下，我们采用的是非接触式电磁控制直线电机，完全实现了电信号控制，最高精度可以达到1纳米，这还是因为我们只采集了这个等级的数据。
而据我所知，国外还在采取纯机械控制技术，他们还在热衷于滚珠丝杠和空气轴承等技术。
控制精度至少与我们相差两个量级。
因此，我们研制光刻机已经没有技术难度。
相反研制离子注入机，却有不少困难。
离子注入机就利用离子溅射的原理，来对已刻划好的晶体管进行掺杂，以达到我们需要的电学性能。
这里面有两个技术难点，第一是高温。
高温会令微小的晶体管变形，因此我们需要想办法让温度降下来。
第二，就是离子的轰击力度，力度过大，容易对晶体管造成损伤，力度过少，又达不到我们需要掺杂的目的。”
说到这里，他就偷看了一下老板，看他是否满意自己的讲解，发现一切没问题，他才做总结发言：
“我就讲这么多，有不足的地方请大家补充。
谢谢！”
洪涛说完就坐下了，他是赶鸭子上架，没有办法，谁让他是留美博士，接触过这方面的知识。
如果他一直缩着不出头，到时老板也会点他的名，那还不如自己主动，给老板的心里留下好印象。
接下来当然没有谁再发言了，这又不是什么美差。
沈丹青等了几分钟，见没有人再站起来发言，就开始讲话：“刚才，洪所长的发言，非常有见地，基本上将重要的注意事项都点明了，我就不再多说了。
我知道的还没有你们在座的任何人多，但我有几点要求。
第一就是良品率，这是硬指标。
第二就是效率，要有大规模生产的能力。
我预计我国今后会用到大量的芯片，我们必须能迅速满足这个要求。
从低端的16位元到中端的32位元，再到将来的高端64位元芯片，我们都要能大量提供。
为了更好的提高你们的积极性，我提早向你们透露一个好消息。
今后我们集团的公司，我规划为三类公司。
第三类为生产面向社会人群的产品的公司，这一类公司的特点，就是需要有社会影响力，也就是说需要打广告。
第二类为生产面向企业的产品。
如：机床、机械、芯片、零部件、生产线等等。
或者是产品设计等虚拟化产品。
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