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第135章 闪耀的光刻之光(第1页)

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1980年代,那是一个充满希望与挑战的时代,改革开放的春风吹遍了中国大地,各行各业都在蓬勃发展。

在科技领域,一场无声的战役也悄然打响,而贾东旭和他的团队,就站在了这场战役的最前线,他们的目标只有一个——在光刻机领域实现重大突破,让中国在全球半导体产业中拥有一席之地。

贾东旭还记得,1985年团队刚刚组建的时候,条件十分艰苦。

那时候,国内对于光刻机的研究几乎是一片空白,他们没有先进的设备,没有成熟的技术,甚至连参考资料都少得可怜。

但是,贾东旭和他的伙伴们没有被困难吓倒,他们怀揣着科技报国的梦想,一头扎进了光刻机的研发工作中。

“兄弟们,咱们虽然起点低,但是只要肯努力,就没有克服不了的困难。

这光刻机,咱们不仅要做,还要做到最好!”

贾东旭在团队成立大会上的这番话,就像一把火,点燃了大家心中的热情。

研发之路充满了艰辛。

团队成员们每天都在实验室里忙碌到深夜,无数次的失败,无数次的重新再来。

为了实现技术突破,他们四处请教专家,查阅各种资料,不放过任何一个可能的技术方向。

1986年,团队争取到了国家科委的专项经费1亿元,这无疑是雪中送炭,让他们有了更充足的资金来购买设备、开展实验。

1986

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1987年,团队成功研发出华光hg

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1原型机,虽然这台原型机还存在很多不足,但是它的诞生标志着团队迈出了坚实的第一步。

随后的几年里,他们不断优化设计,提高性能,先后推出了华光hg

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2和华光hg

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3,在国内市场逐渐崭露头角。

时间来到1990年,这是一个具有里程碑意义的年份。

贾东旭团队成功实现了1.0μm工艺,比当时在光刻机领域处于领先地位的asml还要早5年。

这个消息就像一颗重磅炸弹,在全球半导体行业引起了轰动。

“我们做到了!”

当实验结果出来的那一刻,贾东旭激动得热泪盈眶,团队成员们也都欢呼雀跃。

为了实现这一突破,团队成员们付出了太多的努力。

负责光学系统设计的小王,为了优化镜头的分辨率,连续几个月都在实验室里调试参数,眼睛熬得通红。

“那时候,压力真的很大,但是一想到我们要做出超越国际水平的光刻机,就觉得一切都值得了。”

小王回忆起那段时光,感慨万分。

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