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2的研发过程同样充满了艰辛。
他们不断优化设计，改进工艺，提高分辨率和产能。
“这overlay精度一定要控制好，这关系到芯片的质量。”
贾东旭在车间里不停地叮嘱着技术人员。
终于，华光hg
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2成功问世。
它的分辨率提升到了1.5μm，产能达到了60片小时，overlay精度控制在了±0.15μm。
这款光刻机被应用到了绍兴华越微电子量产z80处理器，良品率达到了65%。
这一成果，让团队在国内半导体行业声名鹊起。
在国内市场逐渐站稳脚跟之后，团队开始把目光投向国际市场。
1989年，通过香港渠道，他们成功将光刻机出口到了东南亚。
这是他们走向国际的第一步，虽然只是一小步，但意义重大。
“我们要让世界看到中国的光刻机技术。”
贾东旭满怀豪情地说。
1990年，他们在东德设立了技术服务中心。
这一举措，不仅方便了为客户提供技术支持，也让他们更好地了解国际市场的需求。
1990
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1991年，团队又开始了华光hg
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3的研发。
这一次，他们要实现更大的突破。
光源从汞灯g线换成了汞灯i线（365nm），分辨率提升到了1.0μm，产能达到了80片小时。
在上海贝岭试产处理器时，良品率达到了50%。
这一成绩，让他们在国际上也有了一定的竞争力。
回顾这几年的研发历程，贾东旭感慨万千。
“这一路走来，我们经历了太多的困难和挫折，但我们从来没有放弃过。
每一次的失败，都是我们前进的动力；每一次的成功，都是我们努力的回报。”
他深知，光刻机的研发之路还很漫长，未来还有更多的挑战等着他们。
但他相信，只要团队齐心协力，就一定能够攻克一个又一个难关，让中国的光刻机技术在世界舞台上绽放出更加耀眼的光芒。
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