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纳米介质刻蚀设备研制成功；2013
年，22
纳米介质刻蚀设备也顺利诞生
。
每一次技术突破，都代表着中微公司在半导体刻蚀领域的技术实力又上了一个新台阶。
除了刻蚀设备，中微公司在
cvd（金属有机化学气相沉积）设备的研发上也取得了重大突破。
2012
年，首台
cvd
设备研制成功并交付客户。
cvd
设备主要用于制造
led
外延片，是
led
产业的核心设备之一。
中微公司
cvd
设备的成功研发，不仅打破了国外企业在该领域的长期垄断，还推动了中国
led
产业的快速发展，降低了
led
产品的生产成本，让中国的
led
产品在国际市场上更具竞争力。
市场拓展与客户认可（2013
-
2018
年）
随着技术的不断突破和产品的日益成熟，中微公司开始积极拓展市场，寻求与更多国内外客户的合作。
他们凭借着卓越的产品性能、优质的售后服务以及合理的价格，逐渐赢得了市场的认可和客户的信赖。
在国内市场，中微公司与中芯国际、华虹集团等半导体行业的领军企业建立了长期稳定的合作关系。
中芯国际作为中国集成电路制造领域的龙头企业，对设备的性能和质量要求极高。
中微公司的刻蚀设备凭借其出色的刻蚀精度、稳定性和生产效率，成功进入中芯国际的生产线，并得到了高度评价。
华虹集团也对中微公司的产品给予了充分肯定，双方在多个项目上展开了深入合作，共同推动了中国半导体产业的发展。
在国际市场上，中微公司也积极出击，与台积电、海力士、联华电子等国际知名半导体企业展开合作。
台积电作为全球最大的半导体代工厂商，其对设备供应商的筛选极为严格。
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