天才一秒记住【长江书屋】地址：https://www.cjshuwu.com
光刻机经历多个发展节点。
目前。
最先进的浸润式光刻机，已经达到28纳米精度。
协议自然是针对浸润式光刻机。
问题来了！
华夏转让的是技术。
拿到技术研发、生产，这是需要一个过程的，时间大约在半年左右。
但！
谢武负责浸润式光刻机研发。
有陈皓的成熟技术，三四个月就能迭代。
因此，北美拿到28纳米技术，还没等研发、制造出来，华夏已完成14纳米研发。
短时间即可投产！
这时候。
华夏再把14纳米技术给北美。
北美是不是又要研发？
等他们研发成功，7纳米的又出来了。
诚然，他们跟华夏技术差距，不再像以前那么夸张了，但终究还是慢了一代。
这不是最致命的。
浸润式光刻机精度极限是7纳米。
那么……
华夏能给北美的，最终止步于7纳米。
别忘了！
谢武对浸润式光刻机，进一步挖掘精度的同时，杜阳和顾经纶一直都在，进行EUV光刻机研发。
到目前为止，都已经快有一年了，离成功不远了吧？
EUV光刻机。
全称极紫外光刻机。
跟浸润式光刻机有技术重叠，但本质上也有非常大的区别。
至少。
它不能算浸润式光刻机吧？
当然也不属于华夏跟北美，签订的浸润式光刻机协议。
一旦研发成功，只有浸润式光刻机技术，北美又如何跟华夏抗衡？
随着EUV研发推进，最终甚至达到1纳米，双方依旧天渊之别！
至于其他领域技术转让……
比如芯片设计。
给你又怎样？
我用EUV光刻机造芯片，你没有同级别的光刻机，有芯片设计也没用啊。
最要命的还是……
本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！