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湾积电和三星的签约，早在数天前就已经完成。
接下来才是英特尔和麒麟资本。
在asml总部见到埃里克之后，双方也没有过多寒暄。
来到会议室，齐舟拿出一份精心准备的文件放在桌上，“签约完成后，你们就可以开始验证。”
埃里克和其他几位高层对视一眼，深呼吸一下，随后将一份打印好的合同推到齐舟面前。
“齐，这是打印出来的意向合同，麻烦核对一下。”
“好的。”
齐舟将意向合同递给身后的陈月，这次的法务团队是由她率队。
拿到合同，陈月与几位精通国际法的法务人员，迅速研究起来。
一番闲聊过后，埃里克随即邀请齐舟对asml总部进行参观。
还亲自带齐舟去看了一眼浸润式光刻机的样机。
一个多小时后，陈月终于打来电话，合同确认无误，可以签约。
齐舟随即返回会议室，在双方工作人员的见证下，将合同签完。
“齐，验证需要一段时间，我已经安排好向导，带你们好好游览一下欧洲的风光。”
埃里克一脸兴奋的说道。
齐舟敢签合同，说明他的办法肯定行之有效。
对asml来说，这是最好的结果。
“多谢，我也正好有此打算。”
齐舟一脸笑容的与埃里克等人一一握手，等他们验证完结果，自己再注资asml。
之后，大家就算是合作伙伴了。
大夏也能秘密引进浸润式光刻机，推动自主芯片产业的发展。
……
将齐舟一行人送到预定好的酒店，埃里克便迫不及待地返回公司。
“埃里克，齐提供的资料，确实很有想法。”
研发部的负责人德莱斯拿着那份文件，兴奋的迎了上来。
“哦，具体说说看。”
埃里克对此也很期待，但他不是技术人员，对文件的内容不是很理解。
“简单来说，研究euv光刻机，首先遇到的难题是光源的功率和稳定性……”
德莱斯翻开文件，指着其中一项内容解释道。
顾名思义，euv光刻机使用的是极紫外光，并且需要的是能产生波长13.5纳米的极紫外光。
目前可以采用激光轰击液态锡靶产生等离子体的方式生成euv光。
但能量转化效率极低，仅有约0.02%的激光能量能转化为可用的euv光。
想要实现量产，则要求光源功率达到250瓦以上，并且必须保持稳定，否则会导致曝光剂量不均，影响芯片良率。
齐舟提供的解决办法是，通过优化激光参数、锡滴相关参数以及反光镜周围的气体环境来提高光源功率。
这一点，以德莱斯为首的研发人员其实都知道。
但文件中所提到的，将锡滴体积减半，减少锡滴管消耗及椭球反光镜污染的办法，在他们看来却是极其大胆。
同时齐舟还提示，需要降低更换频率，同时保证每次激光轰击产生的euv能量不降低。
再通过调整二氧化碳激光功率、氢气流量和压力等参数，找到最佳组合，防止反光镜雾化，提高光源稳定性。
这个办法，让德莱斯眼睛大亮，虽然还没开始验证，但心中已经有所预感。
按照这样的步骤实验下去，或许真的可以实现。
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