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“哈哈这位先生”
“我想你们没有考虑过一种扫描步进投影光刻机”
“扫描步进投影光刻?”
“是的这位先生”
“在高端的半导体制造中一般会用到此种机型”
“他主要是用于0.18
毫米工艺”
“这种光刻机在起曝光过程中”
“掩膜版在一个方向上移动，同时晶圆在与其垂直的方向上同步移动”
“这种光刻机的特点就是增大了每次曝光的视场”
“提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性”
“当然正是这些特点，因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求”
“这种通常比其他曝光机具有更高的生产效率，设计和制造都非常复杂”
“那么他的购买和维护成本都将会是很高的”
“高精度双面光刻主要用于”
中小规模集成电路”
“半导体元器件”
“光电子器件”
“声表面波器件”
“薄膜电路”
“电力电子器件的研制和生产”
“这种双面光刻机包括运动控制系统、图像处理系统、系统软件、数据io处理控制单元。”
啪啪啪啪
全场掌声
“张成先生你讲的对于我们来说实在是打开眼界”
“在你之前我们的光刻机技术就是处于摸索状态”
“我们的设想和你们相比较就差的很多”
“在这一块全球半导体集团和中国却是是走在了我们前面了”
“我们只是有着简单的光刻机的理论”
“我们目前研发的光刻机和你们的相比较就差远了”
“你是？”
“张成先生”
“我介绍一下自己”
“我是美国第一家研究光刻机的公司总工程师”
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