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“深紫外光源也就是duv”
“极紫外光源也就是euv”
“光源的波长影响光刻机的工艺”
“像极紫外光刻机”
“我们选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源”
“全球半导体集团目前主要采用的办法是将准分子激光照射在锡滴液发生器上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源”
“在光刻机的操作上我们根据操作方式的不同”
“我们再次将光刻机分为”
“接触式光刻”
“直写式光刻”
“投影式光刻”
“接触式光刻接触式光刻掩膜板直接与光刻胶层接触”
“这种光刻机所曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单”
“我们还根据施加力量的方式，接触式不同又将光刻机进行了分类”
“软接触”
“硬接触”
“真空接触”
“其中软接触就是把基片通过托盘吸附住”
“就是类似于匀胶机的基片放置方式”
“掩膜盖在基片上面”
“而硬接触就是将基片通过一个气压我们采用的是氮气”
“往上顶”
“知道氮气体与掩膜板接触”
“这里的真空接触就是在掩膜板和基片中间抽气，使它们更加好地贴合”
“这里面他的特点就是”
“光刻胶污染掩膜板，掩膜板容易损坏，使用寿命很短”
“目前我们实验生产在最好的条件下也是只能使用5～25次的”
“他非常容易出现累积缺陷”
“接近式光刻接近式光刻机”
“这是一种掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙”
“一般大约为2.5～25
微米”
“这种光刻机可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤”
“他可以使的掩膜和光刻胶基底能耐久使用”
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