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duV光刻机所用深紫外光波长的193nm短得多。
如果说深紫外目前还算是“存在”
技术壁垒，那极紫外euv光刻机，就可以说全都是壁垒了。
他们对李颜的期待，是能在光刻机制造上给出一些突破性进展就行。
指望李颜的未来科技搓出来一台duv，那完全可以说是失心疯了。
所以，“有野心是好事”
。
2o11年1o月18日，李颜收到了属于他的浸润式duV光刻机。
石磊团队跟华芯国际的科研团队都聚集在了未来科技的会议室，按照李颜的要求提供了大量光刻机使用的相关资料。
堪称事无巨细版大号说明书。
“石院，我有个疑问。”
李颜说道，“如果我们拥有光刻机每个零件的尺寸与位置，明白所有零件的作用与关系，能不能一比一复刻光刻机？”
“这是我们一直在做的事情，但且不说做不做得到，就算做到了，也只是光刻技术整合这块内容有所突破。
光源，对准，这些同样是技术壁垒，光靠‘数据一致’是解决……哦，如果你说的是就连这些东西，都能得到分毫不差的数据，那倒是……”
说完石磊就在华芯国际总工程师魏本坚疑惑的眼神中陷入凌乱状态。
他怎么会有这种奇怪的想法？
当然了，如果能知道所有零部件的材料、尺寸、位置与相关关系，并且能有对应的工业水平造出来，那确实是可以复刻一切工业产品。
不过也不能这么说……就算把零件全部一比一复刻了，也知道都该在什么位置，“怎么装”
也是个巨大的问题。
拼装顺序与时机，都可能最终影响到最终运转的效果……
不过，如果如李颜所说，能明白所有零件的“作用”
，倒是可以反推出零件安装的次序。
连这些都知道了，也不至于找不到安装的办法。
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